下一代深紫外非線性光學晶體材料研究獲突破
2017-07-25 來源: OFweek 激光網 評論:0探索新型深紫外NLO晶體的關鍵科學問題在于新材料需要同時滿足“深紫外透過-大倍頻效應-較大雙折射”相互矛盾性能指標。中國科學院新疆理化技術研究所中科院特殊環境功能材料與器件重點實驗室潘世烈課題組近期通過系統總結含鹵素硼酸鹽體系(Coord. Chem. Rev. 2016, 323, 15),基于材料模擬方法提出了一種將(BO3F)4-功能基團引入硼酸鹽框架的設計策略;基于該策略,成功篩選出一系列很有潛力的含氟硼酸鋰深紫外NLO晶體(Angew. Chem. Int. Ed.2017, 56, 3916)。在此工作基礎上,科研人員借鑒KBBF晶體的結構特征,進一步通過以NH4+替代K+,(BO3F)4-替代(BeO3F)5-,成功設計合成了NH4B4O6F(ABF)晶體。實驗證明,該材料具有非常短的紫外截止邊(156nm),較大的倍頻系數(3×KDP),適中的雙折射能夠滿足深紫外相位匹配(最短匹配波長158nm)。同時,與KBBF相比,ABF的晶體結構更加緊湊,層間作用力顯著增強,從而消除了層狀生長習性,獲得了厘米級的晶體。外,該材料原料不含劇毒鈹元素,且倍頻效應是KBBF的2.5倍,用于深紫外激光光源可獲得更高的轉換效率。ABF綜合性能優異,有望成為下一代深紫外NLO晶體。
相關研究成果發表在《美國化學會志》(J. Am. Chem. Soc.,2017, DOI: 10.1021/jacs.7b05943)上。該研究成果受到國家基金委、中科院和新疆科技廳等單位的大力支持。
(a) ABF深紫外透過光譜;(b) 折射率色散;(c) 相位匹配區間;(d) 倍頻效應
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