國產5nm刻蝕機通過驗證, 將用于臺積電5nm芯片制造!大突破？
2018-12-18 來源： 評論：0摘要：近日，臺積電對外宣布，將在2019年第二季度進行5nm制程風險試產，預計2020年量產。與此同時，中微半導體也向“上觀新聞”透露了一個“重磅”消息，其自主研發的5nm等離子體刻蝕機經臺積電驗證，性能優良，將用于全球首條5nm制程生產線。
近日，臺積電對外宣布，將在2019年第二季度進行5nm制程風險試產，預計2020年量產。與此同時，中微半導體也向“上觀新聞”透露了一個“重磅”消息，其自主研發的5nm等離子體刻蝕機經臺積電驗證，性能優良，將用于全球首條5nm制程生產線。
值得一提的是，中微半導體也是唯一進入臺積電7nm制程蝕刻設備的大陸本土設備商。據悉，中微半導體與臺積電在28nm制程時便已開始合作，并一直延續到10nm和7nm制程。
中微半導體首席專家、副總裁倪圖強博士表示，刻蝕機曾是一些發達國家的出口管制產品，但近年來，這種高端裝備在出口管制名單上消失了。這說明如果我們突破了“卡脖子”技術，出口限制就會不復存在。如今，中微與泛林、應用材料、東京電子、日立4家美日企業一起，組成了國際第一梯隊，為7nm芯片生產線供應刻蝕機。
他還表示，明年臺積電將率先進入5nm制程，已通過驗證的國產5nm刻蝕機，預計會獲得比7nm生產線更大的市場份額。
在半導體制造過程中，光刻機是決定工藝水平的關鍵，所以光刻機在媒體上的曝光率很高，不過現在的的半導體工藝涉及數百道工序，除了最核心的光刻之外，刻蝕也是很重要的一個過程——將晶圓浸入內含蝕刻藥劑的特制刻蝕槽內，可以溶解掉暴露出來的晶圓部分，而剩下的光刻膠保護著不需要蝕刻的部分。
刻蝕機就是處理這部分工藝的，與光刻機相比，刻蝕機的價格就要低多了，通常在500萬美元以內，不過需要的數量比光刻機更多，所以也是非常重要的半導體制造裝備，全球領先的刻蝕機設備公司主要還是LAM、AMAT應用材料等半導體設備巨頭，國內主要是中微電子AMEC及北方華創兩家。
5nm刻蝕機意味著什么？
說完背景知識，現在報道的這個5nm等離子刻蝕機就是中微電子生產的，實際上這件事已經是舊聞了，2017年3月11日中微電子就通過央視CCTV2頻道宣布研發成功5nm等離子刻蝕機，現在則是刻蝕機通過了大客戶臺積電的驗證，可以用于5nm生產線了，只不過臺積電的5nm工藝還在研發中，明年才會試產，量產至少是2020年的事了。
需要注意的是中微半導體5nm刻蝕機的研發成功和獲得臺積電采用，并不代表著中國大陸就可以自己生產5nm工藝芯片了。因為芯片的生產工藝非常的復雜，刻蝕只是眾多關鍵環節當中的一環。
但是，很多自媒體為了吸引眼球，卻往往故意夸大事實，以點概面，以5nm刻蝕機這一個環節上的突破，就大肆宣揚“中國已打破國外壟斷，掌握5nm技術”、“中國已可以制造5nm芯片”。
中微半導體CEO尹志堯尹志堯今年在接受采訪時再次強調：“宣傳要實事求是，不要夸大，更不要為吸引眼球，無中生有，無限上綱。說我們的刻蝕機可以加工5納米器件，也只是100多個刻蝕步驟中的幾步。”
確實，正如我們前面所說，刻蝕只是芯片制造眾多關鍵環節當中的一環，在先進制程的刻蝕設備領域取得突破雖然可喜，但是在其他如光刻機等領域，中國仍處于嚴重落后。目前國內進展最快的上海微電子也只是實現了 90nm 光刻機的國產化。
當然，我們也不能妄自菲薄，除了中微半導體之外，不少國產半導體設備廠商也在一些相關領域的先進制程設備上取得了突破。比如，在14nm 領域，硅/金屬刻蝕機（北方華創）、薄膜沉積設備（北方華創）、單片退火設備（北方華創）和清洗設備（上海盛美）已經開發成功，正在客戶端進行驗證。
相信隨著國產半導體設計及設備廠商的努力，以及中國半導體市場的需求快速增長的拉動，中國芯將會越來越強大。
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